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光学影像测量仪在半导体晶圆行业上的应用

发表时间:2023-08-31 作者:admin 阅读数:104

晶圆是指制作硅半导体积体电路所用的硅晶片,其原始材料是硅。高纯度的多晶硅溶解后掺入硅晶体晶种,然后慢慢拉出,形成圆柱形的单晶硅。硅晶棒在经过研磨,抛光,切片后,形成硅晶圆片,也就是晶圆。目前国内晶圆生产线以 8英寸和 12 英寸为主。

 

晶圆的主要加工方式为片加工和批加工,即同时加工1 片或多片晶圆。随着半导体特征尺寸越来越小,加工及测量设备越来越先进,使得晶圆加工出现了新的数据特点。同时,特征尺寸的减小,使得晶圆加工时,空气中的颗粒数对晶圆加工后质量及可靠性的影响增大,而随着洁净的提高,颗粒数也出现了新的数据特点。

 

晶圆的测量仪器有很多种。对集成电路来说:一般来说4寸晶圆的厚度0.520mm,6寸晶圆的厚度为0.670mm左右。晶圆必须要减薄,否则对划片刀的损耗很大,而且要划两刀。我们做DIP封装,4寸晶圆要减薄到0.300mm;6寸晶圆要减薄到0.320mm左右,误差0.020mm。

 

艾美科光学影像测量仪在晶圆测量上的应用为例,连续多倍变焦实现从广大的视场范围内很容易的选择并放大复杂的工件细节。高分辨率CCD实现该分辨率聚焦,将测量结果转变为高清晰,无畸变图像。

 


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